技術経営の視点からの考察を加え、「知的財産の事業化プロセスと技術経営」をテーマに開催いたします。
また、交流会も開催いたしますので、あわせてご案内いたします。是非ともご参加ください。

【詳細】http://www.ritsumei.ac.jp/acd/re/b-liaison/Event/chizai1.doc

■日時：平成17年1月21日（金） 13：00〜17：00（交流会：17：00〜）

■場所：立命館大学びわこ・くさつキャンパス　ローム記念館
　　　（http://www.ritsumei.ac.jp/mng/gl/koho/annai/profile/access/）

■参加費：無料（交流会費：3,000円）

■プログラム：
≪講演≫
　1．「思考展開　〜創造へのあくなき挑戦」
　　　津田 雅也 氏 　　　大日本スクリーン製造株式会社 専務執行役員
　　　コーポレート技術戦略担当技術開発センター長
　2．「先端技術の知財マネジメント：光触媒の事例を題材にして」
　　　渡部 俊也 氏
　　　東京大学先端科学技術研究センター 教授

≪パネルディスカッション≫
「知的財産の事業化プロセスと技術経営」
　1．「画像処理用LED照明特許とその事業化プロセス」
　　　米田 賢治 氏　シーシーエス株式会社　代表取締役社長
　2．「技術経営という視点から事業化プロセスを考える」
　　　阿部 惇 氏　立命館大学テクノロジーマネジメント研究科長予定者・教授
　3．討論

≪交流会≫（17：00〜18：30）

■申込方法： 参加ご希望の方は、下記URLから、申込書をダウンロードいただき、
FAX(077-561-2811)またはE-mail(liaisonb@st.ritsumei.ac.jp)にてご返送ください。
http://www.ritsumei.ac.jp/acd/re/b-liaison/Event/chizai2.doc
　　＊申込締切：平成17年1月17日（月）

■問合せ先： 立命館大学ＢＫＣリエゾンオフィス 知的財産戦略推進室
　　　　　　　　 TEL：077-561-5025 E-mail：liaisonb@st.ritsumei.ac.jp

■主催：立命館大学知的財産本部