同志社大学では、独創的イノベーションで起業をめざす方々のために、日米技術起業家養成
プログラムを開発し、今年度のみ受講料無料で開校します。本プログラムは、経済産業省補助事
業「日米技術起業家養成プログラム」および「研究開発型ベンチャー起業化プログラム」として採
択されたものです。日米両国におけ る開催を通じて、総合的な技術起業家の教育をめざします。

【詳細】http://www.bs.doshisha-u.jp/mot/

■日時：日本開催 11月18日（木）〜12月5日（日）　夜間と土日祝日
　　　　　米国開催 12月11日（土）〜12月18日（土）　全日制、6日間
　　　　　詳しくはホームページをご覧ください。
■対象：ベンチャー企業の技術経営者(CEO、CTOなど)
　　　　　起業を考えている方、起業をサポートする専門家をめざす方
　　　　　新規事業を考えている企業の担当者
　　　　　技術経営に関心のある企業の担当者、米国の起業環境を知りたい方
■内容：詳しくはホームページをご覧ください。
　　＜第1科目(12コマ)＞日本開催
　　「商法、会計学および企業価値評価」
　 　　　(LS 川口恭弘氏 　BS 白石健治氏 　BS 洪水啓次氏)
　　　　起業家として必ず知っておくべき法律と会計に関する知識を、
　　　　コンパクトに学ぶ。
　　＜第2科目(12コマ)＞日本開催
　　「研究開発型ベンチャー起業化論」
　　　(商・高井紳二氏、研究開発型ベンチャー企業のCEO,CTO)
　　　　ビジネスプランの書き方と ベンチャー企業経営者による起業事例の
　　　　ディスカッション。
　　＜第3科目(12コマ)＞日本開催
　　「ナノテクベンチャー」
　 　　　(BS 山口栄一氏　Giulio Manzoni氏　Lerwen Liu氏)
　　　　ナノテクノロジーを、いかにビジネスに結びつけるか。
　　　　ナノテクを根本原理から学ぶ。
　　＜第4科目（12コマ）＞米国開催
　　「スタートアップベンチャーへの基本的理解と起業家の思考方法」
　　　（ＵＣＬＡ、ＵＳＣ等の教授陣）
　　＜第5科目（12コマ）＞
　　「知の創造性のクラスター集積、Ｒ＆Ｄ起業化プログラムについて」
　　　（ＵＣＬＡ、ＵＳＣ等の教授陣）
■参加費：無料
■定員：30名程度
　　　※科目別受講可能、ただし3科目とも受講のできる方及び米国受講のできる方を優先
■申込方法：下記事項をご記入のうえ、E-mail（mot@doshisha-u.jp）にて
　　　　　　8月31日（火）までにお申し込みください。
　　　　　　折り返し応募書類をお送りします。
　　　　　　　　 ・氏名：
　　　　　　　　 ・所属：
　　　　　　　　 ・住所：
■問合せ先：同志社大学リエゾンオフィス　MOT事務局
　　　　　　　　TEL：075-251-3868 　FAX：075-251-3046
■主催：同志社大学